Capacitively coupled plasma
容量結合プラズマ(ようりょうけつごうプラズマ、Capacitively Coupled Plasma、略称:CCP)は、産業プラズマの中で最も一般的な種類の1つである。基本的には、装置内で短距離に隔てられた2枚の金属極板によって構成されている。装置内の気圧は大気圧より低いか、大気圧と同程度の場合がある。
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Capacitively coupled plasma
容量結合プラズマ(ようりょうけつごうプラズマ、Capacitively Coupled Plasma、略称:CCP)は、産業プラズマの中で最も一般的な種類の1つである。基本的には、装置内で短距離に隔てられた2枚の金属極板によって構成されている。装置内の気圧は大気圧より低いか、大気圧と同程度の場合がある。
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容量結合プラズマ(ようりょうけつごうプラズマ、Capacit ...... 装置内の気圧は大気圧より低いか、大気圧と同程度の場合がある。
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容量結合プラズマ(ようりょうけつごうプラズマ、Capacit ...... 装置内の気圧は大気圧より低いか、大気圧と同程度の場合がある。
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