In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
about
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
description
1989 թուականի Դեկտեմբերին հրատարակուած գիտական յօդուած
@hyw
1989 թվականի դեկտեմբերին հրատարակված գիտական հոդված
@hy
artikull shkencor
@sq
artículu científicu espublizáu en 1989
@ast
scientific article (publication date: December 1989)
@en
wetenschappelijk artikel
@nl
наукова стаття, опублікована в грудні 1989
@uk
مقالة علمية (نشرت في ديسمبر 1989)
@ar
name
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@ast
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@en
type
label
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@ast
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@en
prefLabel
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@ast
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@en
P1476
In-situ doping of silicon using the gas immersion laser doping (GILD) process
@en
P2093
P.G. Carey
T.W. Sigmon
P304
P356
10.1016/0169-4332(89)90234-1
P577
1989-12-01T00:00:00Z