about
Preparing local strain patterns in graphene by atomic force microscope based indentation.Giant linear strain gradient with extremely low elastic energy in a perovskite nanostructure arraySuppressing molecular vibrations in organic semiconductors by inducing strain.Nonlinear Electron-Lattice Interactions in a Wurtzite Semiconductor Enabled via Strongly Correlated Oxide.
P2860
description
2014 nî lūn-bûn
@nan
2014 թուականի Փետրուարին հրատարակուած գիտական յօդուած
@hyw
2014 թվականի փետրվարին հրատարակված գիտական հոդված
@hy
2014年の論文
@ja
2014年論文
@yue
2014年論文
@zh-hant
2014年論文
@zh-hk
2014年論文
@zh-mo
2014年論文
@zh-tw
2014年论文
@wuu
name
Strain scaling for CMOS
@ast
Strain scaling for CMOS
@en
type
label
Strain scaling for CMOS
@ast
Strain scaling for CMOS
@en
prefLabel
Strain scaling for CMOS
@ast
Strain scaling for CMOS
@en
P2093
P3181
P356
P1433
P1476
Strain scaling for CMOS
@en
P2093
A. Khakifirooz
D.K. Sadana
S.W. Bedell
P304
P3181
P356
10.1557/MRS.2014.5
P577
2014-02-01T00:00:00Z