Extreme ultraviolet lithography
EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV).Dies soll es ermöglichen, auch zukünftig die Strukturverkleinerung in der Halbleiterindustrie fortzusetzen, um kleinere, effizientere, schnellere und günstigere integrierte Schaltkreise herstellen zu können.
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14 nm process3 nm process5 nm process7 nm processASML HoldingArgon fluoride laserCarl Zeiss AGChangxin Memory TechnologiesComputational lithographyDavid Attwood (physicist)EUVLEUV absorption in matterEUV defectsEUV lithographyEUV toolsElectron-beam lithographyEllipseEuvExtreme Ultraviolet (EUV)Extreme ultravioletGerman Future PrizeHenry N. ChapmanInterference lithographyJoseph BraatKevin Rolland ThompsonLift-off (microtechnology)List of laser articlesList of plasma physics articlesLithographyMoore's lawMultigate deviceMultiple patterningNanochemistryNanolithographyNext-generation lithographyOptica Optics SoftwareOrders of magnitude (length)
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Extreme ultraviolet lithography
EUV-Lithografie (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie-Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV).Dies soll es ermöglichen, auch zukünftig die Strukturverkleinerung in der Halbleiterindustrie fortzusetzen, um kleinere, effizientere, schnellere und günstigere integrierte Schaltkreise herstellen zu können.
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EUV-Lithografie (auch kurz EUV ...... ltkreise herstellen zu können.
@de
Fotolitografia ultraviolada ex ...... stors segons la llei de Moore.
@ca
La Litografia ultravioletta es ...... rafica con risoluzione di 7nm.
@it
La lithographie extrême ultrav ...... gravures inférieures à 10 nm.
@fr
La litografía ultravioleta ext ...... nta y fenómenos estocásticos.
@es
Фотолитография в глубоком ульт ...... с длиной волны около 13,5 нм.
@ru
極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviol ...... は、、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。
@ja
極紫外光微影、超紫外線平版印刷術(英語:Extreme ul ...... 刻線邊緣粗糙度、選擇性和缺陷控制方面,而造成獨特的蝕刻效果。
@zh
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EUV-Lithografie (auch kurz EUV ...... ltkreise herstellen zu können.
@de
Fotolitografia ultraviolada ex ...... stors segons la llei de Moore.
@ca
La Litografia ultravioletta es ...... rafica con risoluzione di 7nm.
@it
La lithographie extrême ultrav ...... gravures inférieures à 10 nm.
@fr
La litografía ultravioleta ext ...... e aproximadamente 13,5 nm.
@es
Фотолитография в глубоком ульт ...... с длиной волны около 13,5 нм.
@ru
極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviol ...... は、、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。
@ja
極紫外光微影、超紫外線平版印刷術(英語:Extreme ul ...... 刻線邊緣粗糙度、選擇性和缺陷控制方面,而造成獨特的蝕刻效果。
@zh
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EUV-Lithografie
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Extreme ultraviolet lithography
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Fotolitografia ultraviolada extrema (electrònica)
@ca
Lithographie extrême ultraviolet
@fr
Litografia ultravioletta estrema
@it
Litografía ultravioleta extrema
@es
Фотолитография в глубоком ультрафиолете
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极紫外光刻
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極端紫外線リソグラフィ
@ja