Maskless lithography using silicon oxide etch-stop layer induced by megahertz repetition femtosecond laser pulses.
about
Maskless lithography using silicon oxide etch-stop layer induced by megahertz repetition femtosecond laser pulses.
description
2011 nî lūn-bûn
@nan
2011 թուականի Մայիսին հրատարակուած գիտական յօդուած
@hyw
2011 թվականի մայիսին հրատարակված գիտական հոդված
@hy
2011年の論文
@ja
2011年論文
@yue
2011年論文
@zh-hant
2011年論文
@zh-hk
2011年論文
@zh-mo
2011年論文
@zh-tw
2011年论文
@wuu
name
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@ast
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@en
type
label
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@ast
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@en
prefLabel
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@ast
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@en
P50
P356
P1433
P1476
Maskless lithography using sil ...... tion femtosecond laser pulses.
@en
P2093
Venkat Venkataramanan
P304
10834-10842
P356
10.1364/OE.19.010834
P407
P577
2011-05-01T00:00:00Z