Advanced Cu chemical displacement technique for SiO2-based electrochemical metallization ReRAM application.
about
Advanced Cu chemical displacement technique for SiO2-based electrochemical metallization ReRAM application.
description
2014 nî lūn-bûn
@nan
2014 թուականի Հոկտեմբերին հրատարակուած գիտական յօդուած
@hyw
2014 թվականի հոտեմբերին հրատարակված գիտական հոդված
@hy
2014年の論文
@ja
2014年論文
@yue
2014年論文
@zh-hant
2014年論文
@zh-hk
2014年論文
@zh-mo
2014年論文
@zh-tw
2014年论文
@wuu
name
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@ast
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@en
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@nl
type
label
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@ast
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@en
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@nl
prefLabel
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@ast
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@en
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@nl
P2093
P2860
P356
P1476
Advanced Cu chemical displacem ...... tallization ReRAM application.
@en
P2093
Chum-Min Ko
Fun-Tat Chin
Hsin-Chiang You
Li-Min Lin
Tien-Sheng Chao
Wen-Luh Yang
Yu-Hsien Lin
Yu-Ping Hsiao
P2860
P2888
P356
10.1186/1556-276X-9-592
P577
2014-10-28T00:00:00Z
P6179
1032707752